Photomask ญี่ปุ่น 2027
2561. ภาพถ่ายภาพญี่ปุ่น 2027 เป็นรายการ The 33 Simposium on Photomask and NGL Mask Techical Teching วันพุธที่ 7 April ถึงวันศุกร์ที่ 9 April 2027 ที่ PACIIIO YOICOOICMAMA, 1-1-1-1-1 Mimito Mirai, Nishi-ku, Jokohama-2002 ญี่ปุ่น.
การประชุมนี้ถูกจัดขึ้นโดย photmask ญี่ปุ่นและสปีดี เข้าร่วมจัดการโดย BACUS และ EMLC โดยมีนิทรรศการทางเทคนิคในการความร่วมมือกับ SEMI ญี่ปุ่น ภาษาทางการคือภาษาอังกฤษ โครงการนี้ครอบคลุมวัสดุต่าง ๆ สําหรับภาพถ่าย, เทคโนโลยี, เทคโนโลยี และโครงสร้างพื้นฐานสําหรับ EUVL และอุปกรณ์สําหรับการพัฒนา, EDP, cheptegraphy, TIFT และ DTCC; ภาพถ่ายและเทคโนโลยีต่าง ๆ เช่น PSM, OCM, OCM และรูปแบบต่าง ๆ ของภาพถ่ายต่าง ๆ ที่เกี่ยวข้องกับเทคโนโลยีนี้ รวมถึงเทคโนโลยีของเทคโนโลยี และเทคโนโลยีทางธุรกิจของพวกเขาด้วย ขอบเขตที่อุทิศตนมาครอบคลุมการถ่ายเอกสาร และเทคโนโลยีการบวชในอาคาเดมีอา สําหรับนักศึกษามหาวิทยาลัยและนักวิจัยภายหลังแพทย์ โดยมีรางวัล Academatic Poster และรางวัล Haya Academatic.
Abstracts. สืบค้นเมื่อ February International in PDF. ผ่านเว็บไซต์ PMJ; เส้นตายแบบส่ง คือ 30 November 2026 และเส้นตายของต้นฉบับคือ 31 March 2027. 2561. แจ้งเตือนการยอมรับส่งทางอีเมล ไม่สายเกินปลายวันที่ 2027. 225 ซากุระบาชิโดริ, โตยามะ 930-0004 ญี่ปุ่น ([email protected]; PPII ดําเนินการประสานงานโดย [email protected].
ลงทะเบียนเพื่อเข้าร่วมกิจกรรมหรือใช้โต๊ะสำหรับการจัดแสดงสินค้า
แผนที่ของสถานที่จัดงาน และโรงแรมใกล้เคียง
โยโกฮามา – พิสาฟูโก โยโกฮามา, คานากาวะ, ประเทศญี่ปุ่น